لتیم آئن پاور وال

عام طور پر ، کرسٹل سلیکن شمسی خلیات اعلی - کوالٹی سلیکن ویفرز 350-450μm موٹی ، کھینچے ہوئے یا کاسٹ سلیکن انگوٹس سے سوان پر من گھڑت ہوتے ہیں۔

مذکورہ بالا طریقوں میں دراصل زیادہ سلکان مواد استعمال ہوتا ہے۔ مادے کے تحفظ کے لئے ، کیمیائی بخارات جمع (سی وی ڈی) فی الحال سب سے عام طریقہ ہے جو پولی کرسٹل لائن سلیکن پتلی - فلمی خلیوں کو تیار کرنے کے لئے استعمال ہوتا ہے ، جس میں کم - دباؤ کیمیائی بخارات جمع (LPCVD) اور پلازما - بڑھا ہوا کیمیائی بخارات کی فراہمی (PECVD) شامل ہے۔ مائع - فیز ایپیٹیکسی (LPPE) اور اسپٹرنگ جمع کرنے کا استعمال بھی پولی کرسٹل لائن سلیکن پتلی - فلمی خلیات تیار کرنے کے لئے کیا جاسکتا ہے۔

سی وی ڈی بنیادی طور پر SIH2CL2 ، SIHCL3 ، SICL4 ، یا SIH4 کو ری ایکٹنٹ گیس کے طور پر استعمال کرتا ہے۔ حفاظتی ماحول کے تحت ، سلیکن ایٹم سلیکن ایٹم بنانے پر رد عمل ظاہر کرتے ہیں ، جو اس کے بعد گرم سبسٹریٹ پر جمع ہوتے ہیں۔ سبسٹریٹ مواد میں عام طور پر SI ، SIO2 ، اور SI3N4 شامل ہیں۔ تاہم ، تحقیق سے ثابت ہوا ہے کہ غیر -} سلیکن سبسٹریٹس پر بڑے اناج کی تشکیل مشکل ہے ، اور اناج کے مابین فرق آسانی سے تشکیل پایا جاتا ہے۔

اس مسئلے کا حل یہ ہے کہ پہلے ایل پی سی وی ڈی کا استعمال کرتے ہوئے سبسٹریٹ پر امورفوس سلیکن کی ایک پتلی پرت جمع کروانا ہے ، پھر بڑے اناج پیدا کرنے کے لئے اس پرت کو اینیل کریں۔ اس کے بعد اس بیج کے کرسٹل پر موٹی پولی کرسٹل لائن سلیکن پتلی فلمیں جمع کی جاتی ہیں۔ لہذا ، دوبارہ انسٹالائزیشن ٹکنالوجی بلا شبہ ایک اہم اقدام ہے۔ فی الحال ، استعمال ہونے والی اہم ٹیکنالوجیز ٹھوس ہیں - فیز کرسٹاللائزیشن اور وسط - زون پگھلنے والی دوبارہ تعمیر نو۔ دوبارہ تشکیل دینے کے عمل کے علاوہ ، پولی کرسٹل لائن سلیکن پتلی - فلمی خلیات بھی سنگل - کرسٹل لائن سلیکن شمسی خلیوں کی تیاری کے لئے استعمال ہونے والی تقریبا all تمام تکنیکوں کو بھی استعمال کرتے ہیں۔ اس کے نتیجے میں شمسی خلیوں کی تبادلوں کی کارکردگی میں نمایاں طور پر بہتری آتی ہے۔